a)Unter Dotierung versteht man den gezielten Einbau von Fremdatomen in einen reinen Halbleiterkristall.
b)Eine Möglichkeit ist das sogenannte Diffusionsverfahren bei dem z.B. der Halbleiterkristall in die Atmosphäre eines Gases gebracht wird, in dem sich die Fremdatome befinden.
Eine andere Möglichkeit ist die gezielte Implantation von Fremdatomen. Diese Art der Dotierung lässt sich genauer steuern.
